Chu
【姓名】 Chu
【职称】
【研究领域】 物理学;自动化技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 线双折射,Faraday效应,等离子体浸没离子注入,鞘层,粒子模型,上升沿,电流传感器,圆双折射,偏置相位,脉冲偏压,双折射,电场强度,光纤,光纤电流传感器,感器,输出信号,离子注入能,离子注入剂量,...
【工作单位】 香港城市大学
【曾工作单位】 香港城市大学;
【所在地域】 香港
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[1]黄永宪;田修波;杨士勤;Fu Ricky;Chu K.Paul;.脉冲偏压上升沿特性对等离子体浸没离子注入鞘层扩展动力学的影响[J]物理学报.2007,(08)
[2]董小鹏,朱燕杰,颜伟民,Chu B C B,Chiang K S.线双折射对高圆双折射光纤电流传感器输出信号的影响[J]厦门大学学报(自然科学版).2000,(04)
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