朱宏
【姓名】 朱宏
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 辅助沉积,类金刚石薄膜,埋层氮化碳CN_x,C≡N共价键,离子束,氮化碳,离子注入,CN_x,离子束合成,低能离子束,超硬材料,C膜,结构及性能,埋层,XTEM,电阻率,石墨靶,碳原子,IRIS,沉积...
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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[1]朱宏，柳襄怀，任琮欣，陈国梁，邹世昌.单源低能离子束辅助沉积类金刚石薄膜结构及性能研究[J]金属学报.1995,(15)
[2]辛火平,林成鲁,许华平,邹世昌,石晓红,吴兴龙,朱宏,P.L.F.Hemment.新型超硬材料氮化碳CN_x的离子束合成的研究[J]中国科学E辑:技术科学.1996,(03)
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