雷红
【姓名】 雷红
【职称】 研究员;
【研究领域】 材料科学;金属学及金属工艺;计算机硬件技术;
【研究方向】 CMP技术
【发表文献关键词】 化学机械抛光,抛光液,表面微加工,平整化,盘基,化学机械,纳米SiO2粒子,CMP机,玻璃基片,抛光技术,抛光,纳米级,化学机械抛光(CMP),表面改性,纳米CeO_2,超细氧化铝,抛光性能,纳米氧化...
【工作单位】 上海大学
【曾工作单位】 上海大学;
【所在地域】 上海
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中国期刊全文数据库    共找到26篇
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[2]张佩嘉;雷红;.单晶SiC的化学机械抛光及辅助技术的研究进展[J]上海大学学报(自然科学版).2024,(02)
[3]董越;雷红;刘文庆;.哑铃形氧化硅磨粒的制备及其化学机械抛光性能[J]上海大学学报(自然科学版).2023,(02)
[4]丁振宇;雷红;.锆元素诱导非球形磨粒对氧化锆陶瓷的化学机械抛光性能[J]表面技术.2022,(02)
[5]陈入领;王瑶;雷红;.动压载荷下受限纳米水膜流动特性的分子动力学仿真研究[J]摩擦学学报.2016,(06)
[6]雷红;.计算机硬盘基片CMP中表面膜特性的分析研究[J]无机化学学报.2009,(02)
[7]雷红;司马能;屠锡富;布乃敬;严琼林;吴鑫;.氧化硅/氧化铁复合磨粒用于硬盘基片的抛光研究[J]摩擦学学报.2010,(03)
[8]雷红;司马能;袁国兴;屠锡富;布乃敬;藏松涛;.计算机硬盘基片的化学机械清洗技术研究[J]半导体技术.2010,(08)
[9]雷红;张鹏珍;卢海参;.纳米氧化硅在玻璃基片表面亚纳米级抛光中的应用[J]润滑与密封.2006,(01)
[10]王亮亮;路新春;潘国顺;黄义;雒建斌;雷红;.硅片化学机械抛光中表面形貌问题的研究[J]润滑与密封.2006,(02)
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中国重要会议全文数据库    共找到6篇
[1]袁晓玥;雷红;郝萍;肖保其;仝开宇;.硅铝铈氧化物复合磨粒的设计及抛光性能[A].中国稀土学会2021学术年会论文摘要集.2021-10-22
[2]雷红;.化学机械抛光技术及其在电子制造中的应用[A].2009年全国电子电镀及表面处理学术交流会论文集.2009-11-01
[3]方亮;赵蓉;任小艳;雷红;陈入领;.无磨粒化学机械抛光的研究进展[A].第十一届全国摩擦学大会论文集.2013-08-06
[4]张朝辉;雒建斌;雷红;.化学机械抛光中的纳米级薄膜流动[A].中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集（二）.2005-08-01
[5]雷红;.纳米氧化硅化学机械抛光液的制备与应用[A].中国光学学会2006年学术大会论文摘要集.2006-09-01
[6]胡晓莉;雷红;.纳米金刚石粒子表面修饰及其摩擦学性能[A].第八届全国摩擦学大会论文集.2007-11-01
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[2]雷红;.原子级抛光中的抛光液设计及摩擦化学机理[A].上海大学;.项目经费 24万元.2005-03-31.资助文献数 5 篇
[3]雷红.纳米多孔复合磨粒设计及其化学机械抛光机理研究[A].上海大学.项目经费 50万元.2009-03-20.资助文献数 0 篇
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