朱晓东
【姓名】 朱晓东
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 CVD金刚石,界面,等离子体诊断,金刚石薄膜,金属化,金刚石膜,多层膜,活性基团,生长基团,光发射谱,Cr/Cu,等离子体环境,电子温度,气相淀积,直流放电,热阴极,金刚石,等离子体化学,表面金属化,...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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中国期刊全文数据库    共找到31篇
[1]丁芳;郑仕健;柯博;汤中亮;张一川;杨宽;谢新华;朱晓东;.Self-Adjusting Characterization for Steady-State,Direct Current Cathode-Dominated Glow Discharge Plasmas at High Pressures[J]Chinese Physics Letters.2013,(08)
[2]陈越;高继昆;龙婷;聂林;高金明;马尧;黄渊;田文静;刘延民;朱晓东;庄革;钟武律;许敏;.A dual-route optical emission spectroscopy diagnostic with wide spectral range and high wavelength resolution on HL-2A tokamak[J]Plasma Science and Technology.2024,(03)
[3]颜劭祺;高继昆;陈越;马尧;朱晓东;.电子束透射氮化硅薄膜窗产生低密度等离子体[J]物理学报.2024,(14)
[4]杨宽;丁芳;刘汉兴;朱晓东;.高气压直流辉光CH_4/H_2等离子体放电过程中的占空比效应[J]真空科学与技术学报.2019,(05)
[5]石正雨;张一川;杨宽;李唤;朱晓东;.氢分子束流引入对ECR氢等离子体中离子特征的影响[J]真空科学与技术学报.2017,(08)
[6]王建龙;杨宽;张一川;李唤;朱晓东;.层流等离子体炬在快速成形制造中的应用[J]真空科学与技术学报.2016,(03)
[7]张一川;杨宽;李唤;朱晓东;.ICP微等离子体射流在快速成形制造中的应用[J]物理学报.2016,(14)
[8]王建龙;丁芳;朱晓东;.高气压均匀直流辉光放电等离子体的光学特性[J]物理学报.2015,(04)
[9]汤中亮;吴瑞珉;杨赛丹;杨宽;朱晓东;.低气压阴极弧斑等离子体除去钢表面氧化层的实验研究[J]真空科学与技术学报.2014,(05)
[10]孟亮;周海洋;朱晓东;.Role of Duty Ratio in Diamond Growth by Pulsed DC-Bias Enhanced Hot Filament Chemical Vapour Deposition[J]Plasma Science and Technology.2007,(05)
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中国重要会议全文数据库    共找到7篇
[1]刘汉兴;杨宽;朱晓东;汤中亮;.氧化的钢铁阴极弧斑等离子体的光学特性[A].第十八届全国等离子体科学技术会议摘要集.2017-07-26
[2]朱晓东;马锦秀;刘万东;李弘;谢锦林;.中国科大低温等离子体研究进展——放电物理基础及材料应用[A].第十五届全国等离子体科学技术会议会议摘要集.2011-08-08
[3]郑仕健;张一川;柯博;丁芳;朱晓东;.水-等离子体界面动力学特征研究[A].第十五届全国等离子体科学技术会议会议摘要集.2011-08-08
[4]丁芳;郑仕健;汤中亮;倪天灵;柯博;朱晓东;.高气压直流等离子体放电特性和材料应用研究[A].第十五届全国等离子体科学技术会议会议摘要集.2011-08-08
[5]柯博;陈牧笛;杨宽;朱晓东;.RF等离子体沉积硅基纳米结构研究[A].第十五届全国等离子体科学技术会议会议摘要集.2011-08-08
[6]张一川;谢新华;郑仕健;汤中亮;李唤;朱晓东;.微波ECR氮-氩等离子体离子特征及制备FeN磁性薄膜的研究[A].第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会会议摘要集.2013-08-15
[7]汤中亮;吴瑞珉;杨赛丹;杨宽;朱晓东;.低气压直流弧斑等离子体除去钢铁表面氧化层的实验研究[A].第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会会议摘要集.2013-08-15
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承担国家科研项目    共找到1个
[1]朱晓东;.(类)金刚石薄膜特征表面制造与机理研究[A].中国科学技术大学;.项目经费 25万元.2004-03-31.资助文献数 4
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