俞世吉
【姓名】 俞世吉
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】 等离子体制备薄膜材料方面的研究
【发表文献关键词】 超硬涂层,基片位置,CVD,PVD,模拟/非晶碳膜,金刚石薄膜,完全抑制网络结构,非晶碳膜,微波等离子体化学气相沉积,光学间隙,氢化非晶碳膜,金刚石涂层,网络结构,碳氮膜,类金刚石涂层,等离子体球,去...
【工作单位】 大连理工大学
【曾工作单位】 大连理工大学;
【所在地域】 大连
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[1]李建,刘艳红,俞世吉,马腾才.等离子体技术在碳氮膜制备中的应用[J]真空.2004,(02)
[2]刘东平,俞世吉,马腾才.致密非晶碳氢薄膜的结构[J]材料研究学报.2000,(05)
[3]刘东平,俞世吉,马腾才.氢化非晶碳膜完全抑制网络结构研究[J]大连理工大学学报.2000,(03)
[4]俞世吉,丁振峰,马腾才,邬钦崇.基片位置对MWPCVD制备金刚石薄膜的影响[J]真空科学与技术.2000,(02)
[5]刘东平,李芳,俞世吉,马腾才.非晶碳氢薄膜结构及光学间隙[J]材料科学与工艺.2000,(02)
[6]俞世吉,丁振峰,马腾才,邬钦崇.WC-Co硬质合金表面不同去钴预处理方法的比较研究[J]真空科学与技术.2001,(01)
[7]俞世吉,丁振峰,刘东平,马腾才.CVD和PVD超硬涂层的研究进展[J]真空与低温.1999,(03)
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承担国家科研项目    共找到1个
[1]俞世吉;.高气压下介质阻挡放电沉积类金刚石膜及其机理研究[A].大连理工大学;.项目经费 18万元.2000-03-31.资助文献数 3 篇
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