CeF₃及Nd³⁺/Er³⁺掺杂CeF₃晶体光谱与磁光性能研究

【作者】 徐民； 赵赓； 杨依伦； 杭寅；

【机构】 中国科学院上海光学精密机械研究所； 山西大同大学；

【摘要】 采用坩埚下降法生长了氟化铈（CeF₃）晶体及Nd³⁺、Er³⁺掺杂的氟化铈晶体,晶体完整无宏观开裂。X射线粉末衍射结果表明所生长的晶体属于六方结构。对CeF₃晶体开展光透过、拉曼及紫外荧光等光谱性能表征,晶体在325nm～2200nm波段具有较高的透过率且最大声子能量较低(～390cm^-1)。采用消光法测试了CeF₃晶体在不同波长下的磁光Verdet常数,其中紫外355nm处的Verdet常数达625.4rad/Tm。基于CeF₃晶体优异的磁光性能,研制了应用于355nm紫外光的磁光隔离器。对Nd:CeF₃、Er:CeF₃晶体开展吸收、荧光光谱等表征,并利用JO理论计算了晶体的光谱参数,分析了晶体在红外1.06μm、1.55μm的发光性能,为潜在的激光应用奠定基础。Nd:CeF₃、Er:CeF₃晶体磁光Verdet常数测试结果显示稀土离子掺杂提升了基质CeF₃晶体的磁光性能。更多还原