位阻型光致变色染料体系：光控超结构与新型防伪技术

【作者】 胡宏龙； 李萌祺； 杨虹； 奚韩诚； 朱为宏；

【机构】 华东理工大学精细化工研究所；

【摘要】 构造人工光控手性超分子体系一直是材料化学和超分子化学中最吸引人的话题。然而,由于缺少合适的组装砌块一直是一大挑战。本报告主要介绍苯并二噻二唑位阻型烯桥染料体系,重点放在双稳态、构象异构体及手性异构体的分离等性能的突破,发展了系列不同空间位阻的光致变色染料,首次揭示了该系列光响应分子开环体和闭环体两种光可逆异构体不同模式的聚集诱导发光机制,完美实现了分子内旋转受限(RIR)和分子内振动受限(RIV)两种机制调控,并探讨了空间位阻对光响应性能和AIE性能的影响,为发展新型光响应AIE单元提供了全新的研究思路和设计准则。同时,该光响应AIE单元成功实现了在超分辨荧光成像领域的应用,拓宽了AIE材料的应用前景。另外,介绍该位阻型烯桥的超分子手性金属配位大环构筑、光控协同反应和手性专一性可逆调控,以及在液晶体系的光控超结构调控、防伪技术中的应用。更多还原