磁流变抛光中频误差工艺控制算法与策略

【作者】 贾阳； 吉方； 张云飞； 黄文；

【机构】 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所；

【摘要】 磁流变抛光技术具有高效率、高精度、高表面质量等优点,是强光光学零件比较理想的加工方式。但由于磁流变抛光的去除函数束径比工件尺寸小很多,在有效去除低频误差的同时,易产生中高频误差,将使激光光束产生非线性自聚焦效应和表面损伤,影响强激光系统的运行安全。中频误差控制方法已成为磁流变加工乃至柔性抛光技术领域的主要技术瓶颈。对磁流变抛光中的中频误差抑制方法进行了较为系统的研究,从驻留时间、抛光轨迹、去除函数三个方面进行了阐述,并对驻留时间和抛光轨迹进行了相关实验,期望为中频误差的控制提供一定的指导作用。更多还原