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Er掺杂TiO2光触媒薄膜制备及其放电特性研究
【作者】 杨佳奇； 胡一波； 金成刚； 吴雪梅； 诸葛兰剑；
【机构】 苏州大学物理与光电能源学部&苏州纳米科技协同创新中心,苏州大学； 分析测试中心,苏州大学；
【摘要】 本文采用13.56 MHz和60 MHz双频等离子体磁控溅射方法制备了Er掺杂的Ti O2薄膜。并利用AFM、XPS、椭偏仪等表征手段来研究Er掺杂离子对薄膜表面形貌、粗糙度、表面化学态和薄膜厚度的影响。采用减速场离子能量分析仪和光谱仪测量了13.56 MHz和60MHz双频等离子体磁控共溅射条件下的放电等离子体特性,分析了离子能量、离子通量等参数对Er掺杂Ti O2光触媒薄膜沉积、表面粗糙度、厚度等性能影响的可能机制。
- 【会议录名称】 第十八届全国等离子体科学技术会议摘要集
- 【会议名称】第十八届全国等离子体科学技术会议
- 【会议时间】2017-07-26
- 【会议地点】中国陕西西安
- 【分类号】O484
- 【主办单位】中国力学学会等离子体科学技术专业委员会、中国物理学会等离子体物理分会、中国核学会聚变与等离子体物理学会、中国物理学会高能量密度物理专业委员会