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软受限下薄膜层状相取向竞争的研究
【机构】 复旦大学高分子科学系聚合物分子工程国家重点实验室；
【摘要】 <正>嵌段聚合物在薄膜受限中可以形成垂直层状相用于制备高分辨率图案以代替传统的光刻工艺。薄膜厚度和受限基板的性质是影响平行层和垂直层稳定性的主要因素,这得到了强分凝理论(SST)以及自洽场理论(SCFT)和蒙特卡洛(MC)等方法的深入研究。其中,王强等人[1]在研究硬基板受限时发现了有利于垂直层稳定的"诱导相容"效应和有利于平行层稳定的"诱
【基金】 国家留学基金管理委员会(No.201406105018);国家自然科学基金(Grant 21004013);国家重点基础研究计划(Grant2011CB605701)资助
- 【会议录名称】 中国化学会2016年软物质理论计算与模拟会议论文摘要集
- 【会议名称】中国化学会2016年软物质理论计算与模拟会议
- 【会议时间】2016-08-25
- 【会议地点】中国天津
- 【分类号】O631;TB383.2
- 【主办单位】中国化学会