用于半导体行业的氧化钇涂层制备工艺与性能研究

【作者】 侯伟骜； 冀晓娟； 沈婕； 国俊丰； 万伟伟；

【机构】 北京矿冶研究总院；

【摘要】 <正>本文采用等离子喷涂方法和自行研制的氧化钇粉体制备了半导体行业中用于抗等离子体腐蚀的氧化钇涂层,研究了影响涂层颜色、粗糙度、孔隙率、纯度、结合强度等重要物理性能的喷涂工艺因素,并且进一步研究了喷涂工艺过程对涂层抗等离子体腐蚀性能的影响。结果表明,采用北京矿冶研究总院研制的氧更多还原