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阳极氧化铝表面电沉积SiO2薄膜及腐蚀电化学研究

Study on the corrosion and Electrochemistry of SiO2 film based Anodic aluminum oxide

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【作者】 魏红阳； 陈东初； 倪磊； 常萌蕾； 叶秀芳；

【Author】 WEI Hong-yang;CHEN Dong-chu;NI Lei;CHANG Meng-lei;YE Xiu-fang;School of Material Science and Engineering, Nanchang Hangkong University;School of Science, Foshan University;

【机构】 南昌航空大学材料科学与工程学院； 佛山科学技术学院理学院；

【摘要】 分别通过向沉积液内添加表面活性剂、改变沉积电压、调节沉积液PH值、改变电沉积时间等条件在阳极氧化铝表面交流电沉积二氧化硅薄膜。并通过电化学工作站来测试不同条件下的交流阻抗与极化曲线,从而探究其在不同条件下的耐腐蚀性能。探究结果表明:当表面活性剂含量为4 g/L,p H=3,沉积电压为4.5 V,沉积时间为900 s时,所沉积二氧化硅薄膜的耐蚀性较好。

【Abstract】 The SiO2 films were deposited on the Anodic aluminum oxide substrates by add surface active agent, change the deposition voltage, adjust the p H value of deposition liquid, and change the deposition time, respectively. And use the electrochemical workstation to test the AC impedance and polarization curve of different conditions, so as to explore the corrosion resistance in different conditions is explored. The results showed that when the surfactant concentration of 4 g / L, pH = 3, the deposition voltage of 4.5 V, the deposition time for 900 s and the deposited SiO2 films has better corrosion resistance.

【关键词】 二氧化硅薄膜； 电沉积； 交流阻抗； 极化曲线；
【Key words】 SiO2 films； Electrolytic deposition； AC impedance； Polarization curve；
  • 【会议录名称】 中国化学会第30届学术年会摘要集-第一分会：表面物理化学
  • 【会议名称】中国化学会第30届学术年会
  • 【会议时间】2016-07-01
  • 【会议地点】中国辽宁大连
  • 【分类号】O646;O613.72
  • 【主办单位】中国化学会
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