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离子束对电弧离子镀TiN/Cu纳米复合薄膜组织结构及硬度的影响
【机构】 中国科学院金属研究所； 沈阳理工大学；
【摘要】 本文研究了氮离子束对电弧离子镀TiN/Cu纳米复合薄膜组织结构、表面形貌、化学成分及硬度的影响。氮离子束采用弧光放电离子源产生,其弧光放电电流为10-40A。研究表明,不同弧光放电电流产生的氮离子束对薄膜组织结构及硬度有明显影响。不同放电电流时沉积的薄膜均呈现出明显的面心立方NaCl-B1类型的TiN结构,且具有明显的(220)择优取向,其衍射峰强度随着电流增加先增大而后降低,薄膜中均为出现明显的金属Cu的衍射峰。薄膜中Cu的含量随着弧光放电电流的增大而降低,其含量在1.14-1.55at.%范围内。薄膜纳米硬度随着放电电流的增加先增加而后降低,在放电电流为30A时达到最大值40.4GPa,与无离子束时(31GPa)相比明显增大。说明离子束对薄膜的致密性有一定改善,促进了薄膜硬度的提高。
【关键词】 离子束辅助电弧离子镀；
TiN/Cu；
纳米复合膜；
组织结构；
硬度；
- 【会议录名称】 第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛论文摘要集（一）
- 【会议名称】第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛
- 【会议时间】2014-10-28
- 【会议地点】中国湖北武汉
- 【分类号】TQ153
- 【主办单位】中国机械工程学会表面工程分会、中国表面工程协会