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纳米片状碳膜的场发射机理研究
【机构】 延边大学理学院物理系；
【摘要】 利用石英管型微波等离子体化学气相沉积装置,在Si衬底上,以CH4和H4为反应气体制备了纳米片状结构碳膜。利用拉曼光谱仪和扫描电子显微镜对碳膜的结构和表面形貌进行了研究。在高真空系统中测量了纳米片状碳膜的场发射特性,纳米片状碳膜具有良好、稳定的场发射特性。当电流增加到10V/μm时,场发射电流达到66mA/cm2。我们将场发射电流数据分成三个区域,修改了传统的F-N模型和引入空间电荷限制电流(SCLC)模型,分别讨论了低电场、中间电场和高电场区域的碳纳米片薄膜的场发射机理。
- 【会议录名称】 中国电子学会真空电子学分会第十九届学术年会论文集（下册）
- 【会议名称】中国电子学会真空电子学分会第十九届学术年会
- 【会议时间】2013-08-22
- 【会议地点】中国安徽黄山
- 【分类号】TN304.055
- 【主办单位】中国电子学会真空电子学分会、大功率微波电真空器件技术国家级重点实验室