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TiO2薄膜的大气压冷等离子体沉积与光催化氧化气相甲醛

Atmospheric-pressure plasma deposition of TiO2 films and photocatalytic oxidation of gaseous formaldehyde

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【作者】 李小松； 底兰波； 常大磊； 朱爱民；

【Author】 Xiao-Song Li,Lan-Bo Di,Da-Lei Chang,Ai-Min Zhu

【机构】 大连理工大学等离子体物理化学实验室；

【摘要】 <正>TiO2薄膜广泛应用于光催化消除污染物、自清洁、抗菌及染料敏化的太阳能电池等方面,发展低温型制膜方法是其重要发展方向。等离子体化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition,CVD）无疑是一类有代表性的低温型制膜方法。其原理一般是利用冷等离子体的电子温度远高于重粒子温度的非平衡特性,在低温下驱动或增强CVD过程所涉及的化学反应。其最大

【基金】 国家自然科学基金资助项目(10835004,51077009)
  • 【会议录名称】 第十三届全国太阳能光化学与光催化学术会议学术论文集
  • 【会议名称】第十三届全国太阳能光化学与光催化学术会议
  • 【会议时间】2012-10-26
  • 【会议地点】中国湖北武汉
  • 【分类号】O643.32;X511
  • 【主办单位】中国化学学会、中国太阳能学会
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