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高难熔点金属铑膜的制备
【机构】 中科院兰州近物所；
【摘要】 <正>本文主要叙述了在三裂变与核温度测量的核物理实验中需要500-600μg/cm~2左右的铑(Rh)自支撑靶膜。铑是属于一种高熔点金属,硬度大、易脆,熔点为1967℃,蒸发温度为2149℃。按照普通真空蒸发方法制备不了铑膜,必须采用特殊技术和装置才能制备。过去,我们曾用自制电子轰击装置制备过铑自支撑膜,但只能满足于制备较薄和小面积如φ12大小的膜,若制备厚膜,只能用在捞膜时几次叠加的办法来达到。但叠加膜很困难,成功率很少,为此又采用DMD-450型电子枪装置成功的制备了较大面积的,厚度
- 【会议录名称】 中国电工技术学会电子束离子束专业委员会第五届电子束离子束学术年会、中国电子学会焊接专业委员会第三届电子束焊接学术年会论文集
- 【会议名称】中国电工技术学会电子束离子束专业委员会第五届电子束离子束学术年会、中国电子学会焊接专业委员会第三届电子束焊接学术年会
- 【会议时间】1993-12-01
- 【会议地点】中国福建厦门
- 【分类号】O571.43
- 【主办单位】中国电工技术学会电子束离子束专业委员会、中国电子学会焊接专业委员会