节点文献
高曝光深度的表面等离子体激元辅助纳米光刻成像模拟
【机构】 四川大学物理科学与技术学院；
【摘要】 提出一种具有高曝光深度的纳米直写光刻新方法,该方法使用等离子体激元聚焦器件和纳米银镜及双波长光源照射。金字塔孔径阵列被用来聚焦入射光束于80nm的光斑中。这个金字塔与一个镀有银膜的基底相结合,构成了表面等离子体激元(SPP)谐振腔。由传播波及反射波形成的驻波的传播深度将达到几百纳米。具有不同波长的双激光束用作入射光源,并在两个驻波中通过相互补偿的形式形成均匀的光场。模拟结果显示使用355nm和441nm的光源,光刻胶中可获较均匀的光场分布。通过优化光刻胶折射率、入射波长、入射波数目等参数,光刻图案的特征尺寸能够被进一步地降低。
【关键词】 双波长曝光；
表面等离子体激元谐振腔；
无掩模光刻；
- 【会议录名称】 第十届全国光电技术学术交流会论文集
- 【会议名称】第十届全国光电技术学术交流会
- 【会议时间】2012-06-12
- 【会议地点】中国北京
- 【分类号】TN25;O539;TN305.7
- 【主办单位】中国宇航学会