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Dy掺杂α-SiAlON陶瓷的透明机理研究

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【作者】 钟红梅刘茜江俊赫伟归林华

【机构】 中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室瑞典皇家工学院生物技术学院理论化学系中国科学院研究生院

【摘要】 本文通过第一性原理计算研究了Dy掺杂α-SiAlON透明机理。Dy掺杂的透明α-SiAlON陶瓷,是利用热压烧结法制备的,样品在1.5—5.0μm光谱范围内获得高于70%的透过率。其中计算结果显示:由于掺杂的Dy原子的价电子与α-SiAlON价带顶附近的掺杂能级相互作用,导致α-SiAlON光学带隙从0.4 eV增加到1.1 eV,由此抑止波长大于1.0μm的光子的吸收。计算结果与实验结果一致。

  • 【会议录名称】 中国空间科学学会空间材料专业委员会2009学术交流会论文集
  • 【会议名称】中国空间科学学会空间材料专业委员会2009学术交流会
  • 【会议时间】2009-04-01
  • 【会议地点】中国湖南长沙
  • 【分类号】TQ174.75
  • 【主办单位】中国空间科学学会空间材料专业委员会
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