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带柱形凹槽电极表面双频偏压等离子体鞘层物理特性的研究
【机构】 大连理工大学 物理与光电工程学院；
【摘要】 <正>在大规模集成电路和微机电系统制造中,等离子体刻蚀工艺已经成为关键技术。双频电容耦合等离子体(dual frequency capcitive coupled plasma-DFCCP)刻蚀的优势是可以实现对等离子体密度和能量的独立控制,既可以提高等离子体密度提高刻蚀率,又可
- 【会议录名称】 第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会会议摘要集
- 【会议名称】第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
- 【会议时间】2009-07-20
- 【会议地点】中国辽宁大连
- 【分类号】O539
- 【主办单位】中国力学学会等离子体科学与技术专业委员会、中国物理学会等离子体物理分会、中国核学会核聚变与等离子体物理学会