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脉冲溅射技术制备石英谐振器的工艺研究(英文)
Preparation of Quartz Resonators with Pulse Magnetron Sputtering Technology
【Author】 LIU Yan-tao MA Jian-ping (Xi’an University of Technology,xi’an,710048)
【机构】 西安理工大学;
【摘要】 对石英晶体谐振器制备的工艺进行改进,利用脉冲磁控溅射技术替代真空蒸发技术,实现了在石英晶片上快速沉积金属铝电极,得到不同工艺参数下Al膜的沉积速率,通过改变工艺参数,改变对谐振器主要影响因素金属电极薄膜的厚度,实现了对谐振器频率的精确控制。
【Abstract】 On the Preparation of quartz crystal resonators to improve the traditional process,the use of alternative pulse magnetron sputtering vacuum evaporation technology,to achieve a rapid deposition of quartz chip aluminum electrode,under different process parameters of the deposition rate of Al film,by changing the process resonator parameters to control the main factors of the thickness of thin film metal electrode to achieve a resonant frequency of the precise control.
【Key words】 Quartz crystal resonator; Pulse magnetron sputtering; Sputtering Al films; Deposition rate;
- 【会议录名称】 真空技术与表面工程——第九届真空冶金与表面工程学术会议论文集
- 【会议名称】第九届真空冶金与表面工程学术会议
- 【会议时间】2009-08-24
- 【会议地点】中国辽宁沈阳
- 【分类号】TB43
- 【主办单位】中国真空学会真空冶金专业委员会、沈阳市真空学会