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TiO2/Na3AlF6单多层光学薄膜应力的研究

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【作者】 陈焘； 罗崇泰； 王多书；

【机构】 兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室；

【摘要】 薄膜应力是薄膜制备过程中普遍存在的现象,它对薄膜结构和性能有着重要的影响。为了解决应力对光学薄膜滤光片光学性能和力学性能的影响,系统研究了TiO2/Na3AlF6单、多层光学薄膜应力的变化情况及其控制技术。

【关键词】 光学薄膜； 应力； 离子束辅助； 真空退火；
  • 【会议录名称】 第九届真空冶金与表面工程学术会议论文摘要集
  • 【会议名称】第九届真空冶金与表面工程学术会议
  • 【会议时间】2009-08-24
  • 【会议地点】中国辽宁沈阳
  • 【分类号】TB383.2
  • 【主办单位】中国真空学会真空冶金专业委员会（Vacuum Metallurgy Committee of Chinese Vacuum Society）、沈阳市真空学会（ShenYang Vacuum Society）
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