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P型窗口层对NIP型非晶硅太阳电池性能的影响
INFLUENCE OF P LAYER ON THE PERFORMANCE OF NIP-TYPE AMORPHOUS SILICON SOLAR CELLS
【作者】 赵鹏; 薛俊明; 倪牮; 袁育杰; 侯国付; 孙建; 张建军; 赵颖; 耿新华;
【Author】 Zhao Peng,Xue Jun-mi ng~*,Ni Jian,Yang Xing-yun,Yuan Yu-jie,Hou Guo-fu,Sun Jian,Zhang Jian-jun,Zhao Ying,Geng Xin-hua (Institute of Photo-electronic Thin Film Devices and Technique of Nankai University, Key Laboratory of Photo-electronics Thin Film Devices and Technique of Tianjin, Key Laboratory of Optoelectronics Information Science and Technology, Chinese Ministry of Education, Tianjin,300071,China)
【机构】 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所; 南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室; 南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室;
【摘要】 采用RF-PECVD技术,制备NIP型非晶硅太阳能电池。系统研究了P型窗口层的掺杂浓度(B2H6/SiH4)和氢稀释率(H2/SiH4)对电池开路电压(Voc)的影响,制备出Voc达到0.87V,FF达到0.66,效率为8.18%的NIP型非晶硅电池,将此沉积技术应用到不锈钢衬底,制备出初始效率为6.5%的单结非晶硅电池。
- 【会议录名称】 第十届中国太阳能光伏会议论文集:迎接光伏发电新时代
- 【会议名称】第十届中国太阳能光伏会议
- 【会议时间】2008-09-19
- 【会议地点】中国江苏常州
- 【分类号】TM914
- 【主办单位】中国可再生能源学会、江苏省常州市人民政府、中国可再生能源学会太阳能光伏专委会