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P型窗口层对NIP型非晶硅太阳电池性能的影响

INFLUENCE OF P LAYER ON THE PERFORMANCE OF NIP-TYPE AMORPHOUS SILICON SOLAR CELLS

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【作者】 赵鹏薛俊明倪牮袁育杰侯国付孙建张建军赵颖耿新华

【Author】 Zhao Peng,Xue Jun-mi ng~*,Ni Jian,Yang Xing-yun,Yuan Yu-jie,Hou Guo-fu,Sun Jian,Zhang Jian-jun,Zhao Ying,Geng Xin-hua (Institute of Photo-electronic Thin Film Devices and Technique of Nankai University, Key Laboratory of Photo-electronics Thin Film Devices and Technique of Tianjin, Key Laboratory of Optoelectronics Information Science and Technology, Chinese Ministry of Education, Tianjin,300071,China)

【机构】 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室

【摘要】 采用RF-PECVD技术,制备NIP型非晶硅太阳能电池。系统研究了P型窗口层的掺杂浓度(B2H6/SiH4)和氢稀释率(H2/SiH4)对电池开路电压(Voc)的影响,制备出Voc达到0.87V,FF达到0.66,效率为8.18%的NIP型非晶硅电池,将此沉积技术应用到不锈钢衬底,制备出初始效率为6.5%的单结非晶硅电池。

【关键词】 非晶硅NIP结构不锈钢衬底
【基金】 天津市科技发展计划项目(06YFGZGX02100)的支持
  • 【会议录名称】 第十届中国太阳能光伏会议论文集:迎接光伏发电新时代
  • 【会议名称】第十届中国太阳能光伏会议
  • 【会议时间】2008-09-19
  • 【会议地点】中国江苏常州
  • 【分类号】TM914
  • 【主办单位】中国可再生能源学会、江苏省常州市人民政府、中国可再生能源学会太阳能光伏专委会
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