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金刚石厚膜过渡层研究

Stady on Interfacial Layer of Diamond Thick Film

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【作者】 王佳宇吕宪义孙越白亦真金曾孙邹广田

【Author】 Wang Jiayu L Xianyi Sun Yue Bai Yizhen Jin Zengsun Zou Guangtian (National Labrary of Superhard Materials,JiLin University,Changchun 130023,China)

【机构】 吉林大学超硬材料国家重点实验室

【摘要】 通过拉曼光谱、XPS,对采用热灯丝辅助PCVD方法在Mo片上生长的金刚石厚膜的背表面的成分、结构,给出了分析和研究,并用机械研磨的方法对背表面的耐磨性给予了初步的表征。

【Abstract】 Diamond thick film had been deposited by hot filament assistant PCVD on Mo substrate.The interfacial structure was characterized by a combination of Micro-Ramam spectroscopy,X-ray photoelectron spectroscopy.Meanwhile,the wear resistance of diamond thick film was expressed by mechanical wearing.

  • 【会议录名称】 第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集
  • 【会议名称】第三届中国功能材料及其应用学术会议
  • 【会议时间】1998-10-13
  • 【会议地点】中国重庆
  • 【分类号】TB383.2
  • 【主办单位】中国仪器仪表学会仪表材料分会、中国金属学会功能材料分会、中国化学会、中国物理学会发光分科学会、机械工业部重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、清华大学、中国科技大学、南京大学、吉林大学、东北大学、北京科技大学、天津大学、重庆大学、四川联合大学、电子科技大学、福州大学、北京航空航天大学、湖南大学、大连理工大学、华中理工大学、北京工业大学、合肥工业大学、《功能材料》编辑部、重庆市科学技术委员会
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