植酸/AMT自组装混合层缓蚀性能的表面增强拉曼光谱和电化学交流阻抗研究

【作者】 宋巍； 纪佳华； 马晓铃； 孙一平； 朱璇； 段国萍； 陆玉婷； 杨海峰；

【机构】 上海师范大学生命与环境科学学院化学系；

【摘要】 <正>2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑(2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole或5-amino-1,3,4-thiadiazole-2-thiol,简称AMT)是一种新型的金属缓蚀剂[1]。2004年,Prado等相继报道了AMT缓蚀性能的研究[2]。2007年,我们小组[3]通过原位光谱电化学和电化学交流阻抗的方法对AMT在银表面吸附构型及其缓蚀机理进行研究。更多还原