H₂和H₂S在MoS₂、NiMoS催化剂上的吸附与脱附

【作者】 张健伟； 赫广田；

【机构】 大庆石油学院化学化工学院； 大庆石油学院机械科学与工程学院；

【摘要】 主要介绍了无助剂及有 Ni 为助剂的 MoS₂催化剂表面上,氢化物种的形成过程及其结构的稳定性。在稳定的 MoS₂（1010）Mo-边缘上,H₂脱附形成—SH 基,该过程是一放热过程并极易发生;在部分 Ni 促进的表面上（1010）,H₂分子脱附形成表面—SH 基和 Mo—H基或 Ni—H基,该过程是一放热过程,所需能量高于无助剂的（1010）Mo-边缘的情况;在被完全促进的 Ni-边缘上。 H₂解离吸附是一放热过程,脱附形成一对 Ni—H和—SH 或两个 Ni—H物种则是吸热过程;H₂S 可以稳定的吸附于部分或全部被 Ni 促进的 Mo—边缘表面的 Ni 空位上。而表面—SH 可由吸附的 H₂S 脱附解离形成。更多还原