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V+注入TiO2薄膜紫外-可见光谱研究

A Study on UV-Vis Spectra of TiO2 Films with V+ Ion Implantation

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【作者】 侯兴刚； 刘安东；

【Author】 HOU Xing-gang, LIU An-dong Key Laboratory of China Ministry of Education for Radiation Beam Technology and Material Modification, Institute of Low Energy Nuclear Physics, Beijing Normal University; Beijing Radiation Center, Beijing 100875, China

【机构】 教育部射线束技术与材料改性重点实验室北京师范大学低能核物理研究所,北京市辐射中心；

【摘要】 采用V+注入方法制备吸收可见光的TiO2薄膜。紫外-可见光谱表明,随注入V+剂量的增加, TiO2薄膜的光学带隙宽度随之减小。对注入后的TiO2薄膜进行退火可进一步减小光学带隙宽度。

【Abstract】 In order to improve the photocatalytic property of TiO2 films, V+ ions were implanted using a metal vapor vacuum arc (MEVVA) implantor. The optical band gap of TiO2 modified films after the implantation and each annealing process was measured by a spectrophotometer (UV-160, Shimadzu, Japan). The results shows that with the increase in the amount of implanted V+ ions and the annealing temperature, the optical hand gap decreased.

【关键词】 TiO2薄膜； V+注入； 紫外-可见光谱；
【Key words】 TiO2 films: V+ implantation: UV-Vis spectra；
【基金】 国家高科技发展计划“863”项目(2001AA338020)资助
  • 【会议录名称】 第十四届全国分子光谱学术会议论文集
  • 【会议名称】第十四届全国分子光谱学术会议
  • 【会议时间】2006-07
  • 【会议地点】中国吉林长春
  • 【分类号】O611.3
  • 【主办单位】中国化学会物理化学委员会、中国光学会光谱委员会、吉林大学超分子结构与材料教育重点实验室
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