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用(XRD)和(TEM)研究碲化物薄膜附着牢固度与其显微结构的关系
【作者】 张素英； 范滨； 程实平； 凌洁华； 周诗瑶； 王葛亚； 施天生； 鲍显琴；
【机构】 中科院上海技术物理研究所； 上海尼赛拉公司； 上海师范大学测试中心； 中科院上海冶金所； 上海光学仪器厂；
【摘要】 薄膜的附着牢固度是膜层和光学元件的重要指标,它受基板,薄膜的机械性质(如硬度、附着力和应力等)和环境等因素的影响,薄膜牢固度一般是采用液氮和沸水浸泡及玻璃胶纸反复粘贴和撕拉的破坏性工艺试验来测定,但经粘拉试验后,一般完好的膜层或元件均被损坏,这样的工艺试验方法,虽然十分直观有效,但不能找到其内在规律性。
- 【会议录名称】 ’99十一省（市）光学学术会议论文集
- 【会议名称】’99十一省（市）光学学术会议
- 【会议时间】1999-11
- 【会议地点】中国海南海口
- 【分类号】O484
- 【主办单位】上海市红外与遥感学会、上海市硅酸盐学会、上海市激光学会、广东光学学会、广西光学学会、云南光学学会、四川光学学会、陕西光学学会、重庆市光学学会、贵州光学学会、湖北光学学会、湖南光学学会、福建光学学会