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δ掺杂阻止Fe21Ni79/Cu多层膜界面的组分扩散研究

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【作者】 杨立吴小山谭伟石游彪盛雯婷林涛杜军胡安蒋树声

【机构】 南京大学固体微结构物理国家重点实验室

【摘要】 <正>对磁性多层膜用作磁电阻传感器的一个重要的研究课题是获得在尽可能低的饱和场下有大的磁电阻效应的结构材料[1-2]。坡镆合金/铜(Py/Cu)多层膜或坡镆合金/铜/坡镆合金 (Py/Cu/Py)自旋阀结构是目前实现上述目标的最有力的材料。但是,坡镆合金与铜界面之间的扩散严重限制了 Py/Cu/Py 自旋阀的实际应用。因此,表征和抑制 Py/Cu 界面之间扩散

【基金】 国家自然科学基金(No.10174030.90201039)
  • 【会议录名称】 第八届全国X射线衍射学术会议论文集
  • 【会议名称】第八届全国X射线衍射学术会议
  • 【会议时间】2003-10
  • 【会议地点】中国广西南宁
  • 【分类号】O484
  • 【主办单位】中国物理学会X射线衍射专业委员会、中国晶体学会粉末衍射专业委员会
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