高电荷态离子轰击Al2O3/Al表面引起的二次粒子溅射研究

【作者】 王铁山； 程锐； 彭海波； 韩运成； 赵永涛； 肖国青；

【机构】 兰州大学核科学与技术学院； 中国近代物理研究所,中国科学院兰州分院；

【摘要】 <正>高电荷态离子(Highly Charged Ions-HCIs)拥有很强的库仑势能,其能量等于将入射粒子从原子状态剥离到电荷态为 q+时电子结合能的总合。当离子入射到固体材料表面时,这些势能得以释放,进而产生势能溅射(Potential Sputtering-PS)效应。相比较传统的动能溅射(Kinetic Sputtering),PS 更多的只是发生在表面区域(表面几个原子层内),而不会对材料内部造成辐射损更多还原