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工作气压对磁控溅射ITO薄膜性能的影响
【作者】 刘晓平； 任丙彦； 李彦林； 王敏花； 羊建坤； 许颖；
【机构】 天津市红桥区河北工业大学(院部)信息功能材料研究所； 北京市海淀区花园路3号北京太阳能研究所光电室；
【摘要】 透明导电氧化物薄膜材料已广泛地应用于太阳电池、平面显示、特殊功能窗口涂层及其它光电器件领域。氧化铟锡薄膜(ITO)是具有代表性的透明导电膜,最低的电阻率达10-5?·cm量级,可见光谱范围内透过率90%以上,它优异的光电性能使之成为具有实际应用价值的透明导电薄膜,目前已形成了一定的商业生产规模,是平面液晶显示器件中不可或缺的透明电极材料。
- 【会议录名称】 第14届全国晶体生长与材料学术会议论文集
- 【会议名称】第14届全国晶体生长与材料学术会议
- 【会议时间】2006-11
- 【会议地点】中国福建福州
- 【分类号】TB383.2
- 【主办单位】中国硅酸盐学会晶体生长与材料分会