电源参数对铝合金表面微弧氧化陶瓷膜的影响研究

【作者】 辛铁柱； 赵万生； 刘晋春；

【机构】 哈尔滨工业大学机电工程学院；

【摘要】 主要将膜层的厚度、硬度和致密层在总膜厚中所占的比率作为评价陶瓷膜的指标,研究各电源参数(包括电流密度、脉冲频率,正负向电流比值)对铝合金微弧氧化陶瓷膜上述指标的影响。并对:正负半波的离子运动状态进行了探讨。结果表明:在相同氧化时间内,随着电流密度的增加,陶瓷膜的厚度和致密层的显微硬度也显著的增加,但氧化膜中致密层的厚度所占的比率是逐渐下降的,其增长明显趋于平缓;随着脉冲频率的增加,膜层厚度下降很快, 致密层的硬度迅速下降,致密层所占比率却逐渐升高:不同的I+/I-比值得到的膜层厚度有显著的不同,致密层的硬度所占的比率随I+/I-比值降低而升高。更多还原