【作者】 胡立琼； 张跃飞； 王瑜； 陈强； 葛袁静；

【Author】 HU Li-qiong ZHANG Yue-fei WANG Yu CHEN Qiang GE Yuan-jing (Department of Plasma Physics and Materials,Beijing Institute of Graphic Communication,Beijing 102600,China)

【机构】 北京印刷学院等离子体物理与材料研究室；

【摘要】 采用平行板电容耦合射频辉光放电化学气相沉积(RF-PECVD)装置,在镀有TiN/Ti 过渡层的碳钢表面制备类金刚石膜(DLC),以及直接在基材表面制备掺氮的类金刚石膜,研究成膜内应力减小机理.通过对成膜表面的傅里叶变换红外光谱(FTIR)、激光Raman 光谱、X 射线光电子能谱(XPS)的测试,分析成膜表面的组分和微观结构对薄膜的性能影响.以薄膜表面摩擦因数的大小,初步评估试样的耐磨程度,研究α-C:H及α-C:H(N)薄膜的摩擦学性能与其结构的关系.更多还原

【Abstract】 N doped DLC films and DLC films prepared in gradient steel are deposited by RF-PECVD,Fourier transmission infrared spectrum（FTIR）,Laser Raman spectrum and X-ray photoelectronspectrum（XPS）,were employed to analyze the bonding states and chemical composition in the film.Itis noticed that the friction coefficient of the DLC films decrease with the increase of N₂ flow rate ordeposited on the gradient steel.更多还原