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钼基表面化学气相沉积钨涂层
Study on CVD tungsten coating on molybdenum substrate
【Author】 DU Ji-hong, LI Zheng-xian, LIU Gao-jian, ZHOU Hui, HUANG Chun-Hang (Northwest Institute for Non-ferrous Metal Research, Xi’an, 710016, China)
【机构】 西北有色金属研究院;
【摘要】 研究CVD钨涂层的表面形貌和结构、断面性能、涂层的抗热震性能及高温扩散性能。结果显示:钨涂层与基体有2微米左右的扩散层,属于冶金结合且钼在钨中的扩散速度更高:涂层在室温-1400℃~室温进行20次后涂层不脱落、界面没有明显变化,涂层结合力好;涂层界面上的杂质元素氧、碳等影响涂层的结合性能。
【Abstract】 Surface characterization and microstructure studies are performed on chemical vapor deposited (CVD) tungsten coating. About 2nm-thickness diffusion layer of tungsten is found in the molybdenum substrate. The cyclic oxidation test shows that tungsten coating has good adhesion with molybdenum, but the elements of O and C in the tungsten coating have the bad affection to the adhesion. The result of high-temperature diffusion experiment is the diffusion rate from molybdenum substrate to tungsten coating is faster.
- 【会议录名称】 2004’全国真空冶金与表面工程学术研讨会会议论文集
- 【会议名称】2004’全国真空冶金与表面工程学术研讨会
- 【会议时间】2004-05
- 【会议地点】中国沈阳
- 【分类号】TG174
- 【主办单位】中国真空学会真空冶金专业委员会