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钒的氧化物薄膜微观结构的研究

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【作者】 潘梦霄曹兴忠孙建忠王宝义马创新周春兰魏龙李养贤

【机构】 河北工业大学材料科学与工程学院中科院高能物理研究所核分析技术重点实验室

【摘要】 采用直流磁控溅射,通过控制氧分压溅射得到取向性很好的V2O5薄膜,并经过退火得到VO2薄膜。XRD的结果表明,在氧分压增大时V2O3薄膜沿c轴垂直方向取向,(001)面平行于衬底生长,并在退火后得到的VO2薄膜中延续了(001)的取向。SEM照片中观察到细长呈针状的V2O5晶粒层层平铺于衬底,和退火后长大呈棒状的致密的VO2薄膜。用傅立叶变换红外光谱分析薄膜的分子结构和薄膜的晶格转化过程。

【基金】 国家自然科学基金(19927001)
  • 【会议录名称】 第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集
  • 【会议名称】第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议
  • 【会议时间】2004-05
  • 【会议地点】中国天津/承德
  • 【分类号】O484
  • 【主办单位】中国物理学会磁学分会、中国电子学会应用磁学分会
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