节点文献
下一代光刻技术——压印光刻
【机构】 西安交通大学先进制造研究所；
【摘要】 论述了集成电路制造中光刻环节的重要性和阻碍因素,介绍了下一代集成电路制造工艺-压印光刻技术。通过对压印原理分析,对比了热压印、常温压印工艺的技术特点,论述了压印过程中的关键技术-压印对准系统、下压系统。最后,介绍了SIL-Ⅰ型分步式常温紫外光固化压印机的结构特点、精度指标及部分实验结果。
- 【会议录名称】 人才、创新与老工业基地的振兴——2004年中国机械工程学会年会论文集
- 【会议名称】2004年中国机械工程学会年会
- 【会议时间】2004-10
- 【会议地点】中国大连
- 【分类号】TN405
- 【主办单位】中国机械工程学会、辽宁省机械工程学会