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R.F.磁控溅射生成的氧化钨薄膜的性能
The behaviors of tungsten oxide thin films prepared by r.f. magnetic sputter
【Author】 LI Zhu-ying, SONG Yu-su, LIU Zu-li, YAO Kai-lun(1. The Physics Department of Huazhong University of Science and Technology of Hubei, Wuhuan 430074, China; 2. Naval University of Engineering of Hubei, Wuhan 430033, China)
【机构】 华中科技大学物理系； 海军工程大学文理学院；
【摘要】 由于薄膜沉积过程中缺乏氧气,溅射得到的是化学配比偏离WO3的氧化钨薄膜,本文详细研究了不同电压下,R.F磁控溅射生成的不同化学配比的氧化钨薄膜的伏安循环特性;发现它们在一定电压范围内(1.15V到2.8V)都可产生着色现象.着色后对光的吸收是一致的.光的透过率显示电压超过某一值后,膜的变色能力减弱并消失.XRD显示本文所得氧化钨薄膜主要是非晶态的结构.
【Abstract】 The experiments show that it is hard to get pure tungsten trioxide thin films from r.f. magnetic sputter deposition. X-ray photoelectron spectrum (XRS) show that there are three main kinds of stoichiometry tungsten oxide in tungsten oxide thin film prepared by r.f. magnetic sputter. The cyclic voltammograms of different stoichiomery tungsten oxide films show the voltages that the films began to colorize are different. But the voltages that make the films lost electrochromic phenomenon are same. The structural changes of thin film between the as-deposited state and damage state were investigated by XRD. The optical transmittance of W oxide films also was studied.
- 【会议录名称】 第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅲ
- 【会议名称】第五届中国功能材料及其应用学术会议
- 【会议时间】2004-09
- 【会议地点】中国北京·秦皇岛
- 【分类号】O484
- 【主办单位】国家仪表功能材料工程技术研究中心、国家“863”计划新材料领域专家委员会、中国仪器仪表学会仪表材料学会、中国金属学会、中国稀土学会、中国复合材料学会、中国有色金属学会、重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、包头稀土研究院、钢铁研究总院、北京工业大学、燕山大学、山东大学、云南大学、上海交通大学、华中科技大学、天津大学、四川大学、湖南大学、大连理工大学、南京大学、清华大学、西南师范大学、北京科技大学、北京大学、厦门大学、中南大学、电子科技大学、重庆大学、福州大学、吉林大学、哈尔滨工业大学、武汉大学、西安理工大学、北京交通大学、西北工业大学、苏州大学、东北大学、复旦大学、武汉理工大学、浙江大学、北京理工大学、北京航空航天大学、中国科技大学、西南交通大学、南开大学、《功能材料与器件学报》编辑部、《功能材料》编辑部