节点文献

SrTiO3薄膜材料的高分辨率X射线衍射分析研究

STO films’ research with a HRXRD

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【作者】 姬洪； 左长明； 何士明； 熊杰； 李言荣；

【Author】 JI Hong, ZUO Chang-ming, HE Shi-ming, XIONG Jie, LI Yan-rong(School of Micro-electronics and solid-state Electronic, University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 610054, China)

【机构】 电子科技大学微电子与固体电子学院；

【摘要】 本文应用高分辨X射线衍射(HRXRD+TAXRD)技术对外延生长的SrTiO3膜进行了分析,获得了有关该薄膜的晶体取向、衬底的结构特性以及弛豫态的点阵常数等信息,对今后改进SrTiO3系列样品生长工艺有重要的意义。

【Abstract】 In this paper, the information of crystal orientation of STO(SrTiO3) films, its lattice constant of relaxation and substrate’s structure characteristic et al. have been gained by analyzing eptaxial STO films with a high resolution X-ray diffractometer(HRXRD+ TAXRD). This is available work for later research of improving growth process of STO films.

【关键词】 高分辨X射线衍射； 外延生长； 弛豫态的点阵常数；
【Key words】 HRXRD； eptaxial growth； lattice constant of relaxation；
  • 【会议录名称】 第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅱ
  • 【会议名称】第五届中国功能材料及其应用学术会议
  • 【会议时间】2004-09
  • 【会议地点】中国北京·秦皇岛
  • 【分类号】TB383
  • 【主办单位】国家仪表功能材料工程技术研究中心、国家“863”计划新材料领域专家委员会、中国仪器仪表学会仪表材料学会、中国金属学会、中国稀土学会、中国复合材料学会、中国有色金属学会、重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、包头稀土研究院、钢铁研究总院、北京工业大学、燕山大学、山东大学、云南大学、上海交通大学、华中科技大学、天津大学、四川大学、湖南大学、大连理工大学、南京大学、清华大学、西南师范大学、北京科技大学、北京大学、厦门大学、中南大学、电子科技大学、重庆大学、福州大学、吉林大学、哈尔滨工业大学、武汉大学、西安理工大学、北京交通大学、西北工业大学、苏州大学、东北大学、复旦大学、武汉理工大学、浙江大学、北京理工大学、北京航空航天大学、中国科技大学、西南交通大学、南开大学、《功能材料与器件学报》编辑部、《功能材料》编辑部
打印本页
节点文献中：