节点文献

非晶SrTiO3纳米薄膜退火处理方法的研究

Study on different annealing technology of amorphous SrTiO3 nano thin films

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【作者】 黄文； 孙小峰； 蒋书文； 张鹰； 李言荣；

【Author】 HUANG Wen, SUN Xiao-feng, JIANG Shu-wen, ZHANG Ying, LI yang-rong(Institute of Microelectronics and Solid State Electronics, University ofElectronic Science and Technology of China 610054, China)

【机构】 电子科技大学微电子与固体电子学院；

【摘要】 用激光脉冲沉积技术(PLD),以N型(100)Si为基底在300℃下制备100nm非晶STO薄膜,分别用常规退火(CFA),快速退火(RTA)以及激光诱导晶化(LIC)处理将其转化多晶薄膜,用XRD测定薄膜相组分和结晶质量,用AFM观测薄膜表面微结构.比较不同工艺退火对薄膜结晶品质的影响并阐述了各自形核结晶的机理.

【Abstract】 100nm STO thin films were prepared on the N-Si (100) substrates by pulsed laser deposition at room temperature. After conventional fire annealing (CFA), rapid thermal annealing (RTA) and laser induced crystallization (LIC), the amorphous films were transformed into poly crystal line STO films. The phase formation and crystallization quality were investigated by X-ray diffraction (XRD); the surface micro-structure was observed by atom force microscopy (AFM). The different crystallization mechanism was explained by comparing the different annealing technology.

【关键词】 SrTiO3薄膜； 退火处理； 界面形态； 晶化；
【Key words】 SrTiO3 thin film； annealing； interface state； crystallization；
  • 【会议录名称】 第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅱ
  • 【会议名称】第五届中国功能材料及其应用学术会议
  • 【会议时间】2004-09
  • 【会议地点】中国北京·秦皇岛
  • 【分类号】TB383
  • 【主办单位】国家仪表功能材料工程技术研究中心、国家“863”计划新材料领域专家委员会、中国仪器仪表学会仪表材料学会、中国金属学会、中国稀土学会、中国复合材料学会、中国有色金属学会、重庆仪表材料研究所、北京有色金属研究总院、包头稀土研究院、钢铁研究总院、北京工业大学、燕山大学、山东大学、云南大学、上海交通大学、华中科技大学、天津大学、四川大学、湖南大学、大连理工大学、南京大学、清华大学、西南师范大学、北京科技大学、北京大学、厦门大学、中南大学、电子科技大学、重庆大学、福州大学、吉林大学、哈尔滨工业大学、武汉大学、西安理工大学、北京交通大学、西北工业大学、苏州大学、东北大学、复旦大学、武汉理工大学、浙江大学、北京理工大学、北京航空航天大学、中国科技大学、西南交通大学、南开大学、《功能材料与器件学报》编辑部、《功能材料》编辑部
打印本页
节点文献中：