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溶胶-凝胶工艺制备SrTiO3纳米薄膜的研究

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【作者】 刘超； 李建平； 曾一平；

【机构】 中国科学院半导体所材料中心；

【摘要】 <正> 薄膜制备技术的发展对推动现代半导体技术的进步和新型器件的开发正显示出越来越重要的作用。钛酸锶（SrTiO3）薄膜材料作为一种可替代SiO2而在下一代CMOS集成电路中使用的高κ介质栅板材料一直吸引着人们的研究兴趣。1999年Motorola实验室通过在硅衬底卜外延生长SrTiO3薄膜的方法研制出了世界上最薄的品体管。2001年它又利用外延生长的SrTiO3薄膜作应变缓冲层,取得了在12英寸硅衬底上外延生长高质量GaAs薄膜材料的重大突破,并用此材

  • 【会议录名称】 TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
  • 【会议名称】TFC’03全国薄膜技术学术研讨会
  • 【会议时间】2003-09
  • 【会议地点】中国浙江宁波
  • 【分类号】TB383
  • 【主办单位】中国真空学会薄膜专业委员会、宁波市科技局、宁波市科技园、浙江大学、清华大学、北京北仪创新真空技术有限责任公司
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