【作者】 李雯； 谭智敏； 薛昕； 刘理天；

【Author】 Li Wen Tan Zhimin Xue Xin Liu Lilian (Institute of Microelectronics, Tsinghua University, Beijing 100084, China)

【机构】 清华大学微电子学研究所；

【摘要】 研究了紫外厚胶光刻技术在三维微机械电感中的应用。实验用负性光刻胶SU-8构造了三维微机械电感的胶结构模型,并对光刻胶的工艺条件进行了研究。结果表明,负性光刻胶SU-8的光敏性好,形成的胶结构侧墙较陡直,能够实现较大的深宽比,为结构复杂的三维微机械电感的制作提供了保证。更多还原

【Abstract】 The UV lithography technology of SU-8 photoresist and its application in 3-D MEMS inductors are reported. The UV lithography process of SU-8 photoresist was studied and optimized. Based on this result, we used SU-8 to fabricate the mold of 3-D MEMS inductors for electroplating. The microstructures with high-aspect-ratio and vertical sidewalls were patterned, which contribute to the fabrication of 3-D MEMS inductors.更多还原