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Si3N4/BN层状陶瓷材料中BN界面层的作用

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【作者】 赵世柯； 汪长安； 李翠伟； 昝青峰； 黄勇；

【机构】 清华大学材料科学与工程系；

【摘要】 <正>Si3N4/BN体系是典型的弱界面结合的层状陶瓷材料,BN界面层的存在及其性质对材料性能起着至关重要的作用。本文重点研究了BN界面层对材料高温蠕变行为（<1300℃）的影响,在此基础上对BN界面层在Si3N4/BN层状陶瓷材料中的作用进行了总结。在室温条件下,当主裂纹垂直扩展至BN界面层时会发生偏转进入界面或层面层中扩展,延长了裂纹扩展路径;同时,BN界面层的存在还可以使材料在断裂过程中发生宏观层间滑移和摩擦。这些过程都会消耗大量的能量,从而使Si3N4/BN层状陶瓷材料获得很高的断裂功和断裂韧性。BN界面层对材料的高温蠕变行为有显着影响,主要表现在以下几个

  • 【会议录名称】 中国硅酸盐学会2003年学术年会论文摘要集
  • 【会议名称】中国硅酸盐学会2003年学术年会
  • 【会议时间】2003
  • 【会议地点】中国北京
  • 【分类号】TQ174
  • 【主办单位】中国硅酸盐学会（The Chinese Ceramic Society）
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