【作者】 金春水； 马月英； 裴舒； 林强； 曹健林；
【机构】 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所；
【摘要】 本文介绍了基于速度调整技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并利用改进后的磁控溅射镀膜装置,在φ150mm硅片上进行了13um Mo/Si多均匀层膜。更多还原
