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软X射线多层膜与衰减膜研究

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【作者】 王占山吴永刚唐伟星秦树基周斌陈玲燕

【机构】 同济大学物理系

【摘要】 本文采用随机数的方法,发展了一种普适的多层膜设计方法,这种方法除可设计一般的周期多层膜,更重要的是它可以根据选定评价因子,设计不同要求的非周期多层膜。用磁控溅射方法完成软X射线多层膜制备,X射线衍射、卢瑟福背散射、俄歇电子谱和反射率的相对测试用来表征多层膜结构和特性,所得结果说明多层膜的结构完整,周期参数正确;分析了Ag和Zr衰减膜中的杂质含量与分布及其对衰减膜特性的影响,并对衰减系数进行了修正;探索了C8H8+Al复合衰减膜的制备方法。为实验提供优质的靶和衰减膜。

【关键词】 软X射线多层膜衰减膜随机数磁控溅射
  • 【会议录名称】 第六届全国激光科学技术青年学术交流会论文集
  • 【会议名称】第六届全国激光科学技术青年学术交流会
  • 【会议时间】2001-10
  • 【会议地点】中国贵阳
  • 【分类号】O484.41
  • 【主办单位】中国物理学会
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