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脉冲激光烧蚀法淀积非晶硅薄膜的实验研究

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【作者】 白婷刘晶儒姚东升韦成华王丽戈袁孝

【机构】 西北核技术研究所

【摘要】 本文详细介绍了脉冲激光烧蚀法淀积非晶硅薄膜的实验技术,系统研究了主要工艺参数对薄膜制备及性能的影响,并由此得到了该种工艺制备α-Si薄膜的最佳成膜条件。通过激光拉曼散射、X射线衍射以及光谱计算等对薄膜性能的分析和测试显示,我们利用脉冲激光烧蚀淀积法制备的α-Si薄膜的主要技术指标已经达到了国内同类研究水平。

【关键词】 α-SiKrF准分子激光脉冲激光烧蚀
【基金】 惯性约束聚变青年科学基金。
  • 【会议录名称】 2000年材料科学与工程新进展(上)——2000年中国材料研讨会论文集
  • 【会议名称】2000年中国材料研讨会
  • 【会议时间】2000
  • 【分类号】TB43
  • 【主办单位】中国材料研究学会
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