【作者】 赵晓辉；

【导师】 张连水；

【作者基本信息】 河北大学 ， 光学， 2001， 硕士

【摘要】 本工作在较低气压条件下（0.5—10Torr），对Xe/I₂混合气体直流辉光放电和高频介质阻挡放电等离子体中XeI准分子形成过程进行较为详细的研究。通过对放电等离子体中荧光发射谱和电子温度的分析得到了上述两种放电等离子体中XeI准分子的形成机理以及气压变化对准分子形成的影响。实验表明：在两种放电等离子体中主要形成B激发态的XeI准分子，然后XeI（B）向基态跃迁，即B_1/2→X_1/2跃迁，同时发射紫外荧光。此跃迁属于Bound--Free跃迁，谱线强度具有明显的波动结构，最大峰值出现在253nm附近。XeI准分子在两种放电等离子体中形成机理不同，直流辉光放电等离子体中主要形成通道为：激发态的Xe原子与基态的I₂相互作用形成激发态的XeI准分子，随气压变化效率最大值出现在2.5Torr左右；介质阻挡放电等离子体中主要形成通道为：离子态的Xe⁺与离子态的I₂^-发生离子复合形成激发态的XeI准分子和I^*，随气压变化效率最大值出现在4Torr左右。更多还原

【Abstract】 The formation of XeI excimer in DC glow discharge plasma and DBD plasma of Xe/I2 mixture at low pressure(O.5-OTorr) is investigated. The formation mechanism of XeI excimer and influence of the varied piessure in the two plasmas are obtained through measuring the fluorescence emission spectra and the electron temperature. The results indicate that XeJ(B) excimer is the main product in the plasmas, then transits to the ground state, namely 131/2 X112, which is attributed to Bound?-Free transition, and emits 253nm fluorescence whose intensity has undulatory structure at the same time. For DC glow discharge plasma, Xe*+I2~~~~XeI*+I is major reaction producing the excimer whose efficiency reaches maximum at 2.5 Torr; and for DBD plasma, ~ is major reaction producing the excimer whose efficiency reaches maximum at 4 Ton.更多还原