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功率VDMOS晶体管的抗总剂量辐照研究

Study on Total Dose Radiation Hardness of POWER VDMOSFETs

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【作者】 王立新单尼娜刘刚韩郑生夏洋

【Author】 WANG Li-xin,SHAN Ni-na,LIU Gang,HAN Zheng-sheng,XIA-Yang,(Institute of Microelectronics,Chinese Academy of Sciences,Beijing,100029,China)

【机构】 中国科学院微电子研究所

【摘要】 对2种不同结构的功率VDMOS晶体管进行了总剂量辐照的试验研究,条形栅结构比元胞型结构具有抗总剂量辐照的结构优势,中国科学院微电子研究所利用条形栅结构制作出高抗总剂量辐照能力的功率VDMOS晶体管,抗总剂量能力可达1 400 krad(Si)以上。

【Abstract】 The effect of total dose radiation on power VDMOSFETs of two different patterns has been presented The stripe cell pattern is the more promising pattern in the total dose radiation hardness of power VDMOSFETs than hexagon cell patterns.Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences has developed stripe cell power VDMOSFETs of high total dose radiation hardness ability.The products can be immune from 1 400 krad(Si).

  • 【文献出处】 核电子学与探测技术 ,Nuclear Electronics & Detection Technology , 编辑部邮箱 ,2012年07期
  • 【分类号】TN386
  • 【被引频次】4
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