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高纯二氧化硅制备的研究

STUDY ON PREPARATION OF HIGH-PURITY SILICON DIOXIDE

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【作者】 杨妮俞小花何恩姚云侯彦青谢刚

【Author】 YANG Ni1 YU Xiao-hua1 HE En1 YAO Yun1 HOU Yan-qing1 XIE Gang2 (1.Faculty of Metallurgical and Energy Engineering,Kunming University of Science and Technology,Kunming 650093,China; 2.Technology Center of Yunnan Metallurgical Group Co.,Kunming 650031,China)

【机构】 昆明理工大学冶金与能源工程学院云南冶金集团技术中心

【摘要】 本文介绍了国内外制备高纯二氧化硅的现状,研究了在硅石制取高纯二氧化硅过程中,压力与温度对硅石浸出过程的影响,酸种类和螯合剂对产品纯度的影响,以及酸度、陈化条件对二氧化硅粒度的影响。实验表明:在最佳工艺条件下,可制得纯度为99.9604%,平均粒度为18.37μm的二氧化硅。

【Abstract】 This paper introduces the current situation of high-purity silicon dioxide preparation at home and abroad,and studies the impact of pressure & temperature on silica leaching process,impact of acid & chelating agent on product purity,and impact of acidity & aging condition to silicon dioxide particle size.The results shows that under best process condition,silicon dioxide with purity of 99.9604% and average particle size of 18.37μm can be prepared.

  • 【文献出处】 矿冶 ,Mining and Metallurgy , 编辑部邮箱 ,2011年03期
  • 【分类号】TQ127.2
  • 【被引频次】7
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