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LCD相关原材料产业发展态势(下)

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【作者】 高鸿锦；

【机构】 北京清华液晶技术工程研究中心 北京 100084；

【摘要】 <正>4 ITO玻璃通常在基片玻璃上用电子束蒸发或在氧气气氛中溅射得到ITO膜,膜厚在100～300nm之间,由所需的电阻所确定。在溅射时,采用ITO合金靶,在SnO2-In2O3合金中,SnO2的浓度大约为5%～10%时,有利于得到最佳的ITO膜性能。在沉积过程中,氧

【关键词】 产业发展态势； LCD； 电子束蒸发； CCFL； 膜性； 背光源； 沉积过程； 导光板； 重要生产基地； 玻璃管；
  • 【文献出处】 现代显示 ,Advanced Display , 编辑部邮箱 ,2007年04期
  • 【分类号】F426.63
  • 【被引频次】5
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