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CVD金刚石薄膜与硬质合金基体之间过渡层技术

Interlayer Technology Between CVD Diamond Films and WC-Co Substrates

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【作者】 刘炯胡东平薛屺唐安俊邬柯

【Author】 LIU Jiong1,HU Dong-ping2,XUE Qi3,TANG An-jun3,WU Ke4(1.Petroleum Industry Institute for Quality Surveillance and Inspection of Well-Control Equipment,Sichuan Petroleum Administration,Guanghan 618300,China;2.China Academy of Engineering Physics,Mianyang 621900,China; 3.Department of Materials Science and Engineering,Southwest Petroleum University,Chengdu 610500,China;4.Chuanyou Honghua Co.,Ltd,GuangHan 618300,China)

【机构】 四川石油管理局安全环保质量监督检测研究院中国工程物理研究院结构力学研究所西南石油大学材料科学与工程学院川油宏华有限公司 四川广汉618300四川绵阳621900四川成都610500四川广汉618300

【摘要】 介绍了有助于提高金刚石薄膜与WC-Co基体之间附着力的过渡层技术,主要包括过渡层所起的作用,设计过渡层考虑的因素,影响过渡层性能的因数,还介绍了几个有特色的例子。

【Abstract】 Interlayer technology,which is helpful in improving the adhesion strength between diamond films and WC-Co substrate,was briefly introduced mainly including the functions of interlayer,the factors that should be considered when interlayer design,and the factors responsible for the properties of interlayer.Some typical examples were also given.

  • 【文献出处】 表面技术 ,Surface Technology , 编辑部邮箱 ,2007年05期
  • 【分类号】TG174.4
  • 【被引频次】9
  • 【下载频次】350
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