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金刚石膜制备工艺对其应力-应变特性的影响

Influences of Deposition Technologies on Stress-strain Properties of Thick Diamond Films

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【作者】 白亦真吕宪义韩雪梅金曾孙吕天山白媛

【Author】 BAI Yi-zhen~(1,2),L Xian-yi~3,HAN Xue-mei~3,JIN Zeng-sun~3,L Tian-shan~4,BAI Yuan~5(1.State Key Laboratory of Materials Modification by Laser,Ion and Electron Beams,Dalian University of Technology,Dalian 116023,Liaoning Province,China;2.Department of Physics,Dalian University of Technology,Dalian 116023,Liaoning Province,China;3.State Key Laboratory of Superhard Materials,Jilin University,Changchun 130012,China;4.School of Business Administration,Changchun University of Technology,Changchun 130012,China;5.School of Computer Science and Engineering, Liaoning Institute of Technology,Jinzhou 121000,Liaoning Province,China)

【机构】 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室吉林大学超硬材料国家重点实验室长春工业大学工商管理学院辽宁工学院计算机科学与工程学院 辽宁省大连116023大连理工大学物理系辽宁省大连116023长春130012辽宁省锦州121000

【摘要】 研究了在直流热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积制备金刚石厚膜的工艺过程中,放电电流和甲烷浓度对金刚石膜应力-应变特性的影响规律.

【Abstract】 This paper focuses on the influences of the discharge current and methane concentration on the stress-strain properties of Chemical Vapor Deposition(CVD) thick diamond films.This has laid good foundations for the promotions of the qualities,especially the mechanical properties of thick diamond films.

【基金】 “863”计划新材料领域资助项目基金(批准号:2002AA325090)
  • 【文献出处】 吉林大学学报(理学版) ,Journal of Jilin University(Science Edition) , 编辑部邮箱 ,2006年05期
  • 【分类号】O484.5
  • 【被引频次】6
  • 【下载频次】158
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